[发明专利]微透镜的制造方法无效
| 申请号： | 201380034746.8 | 申请日： | 2013-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN104428714A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 吉林光司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B3/00;G02B5/20;H01L27/14;H04N5/369 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种微透镜的制造方法，其是在形成于基板上的透镜材料层上，在不经由熔融工序的情况下，形成具有图案形状的掩模层，与所述透镜材料层一起进行干式蚀刻，将所述掩模层的图案形状转印到所述透镜材料层上而形成微透镜。由于通过不经由利用作为掩模材料的光致抗蚀剂的热流的熔融工序，变得不需要用于利用熔融工序的透镜形状化的图案间间隙，所以能够缩小掩模图案间间隙，排除线宽不均。此外，由于不产生伴随熔融工序的图案间熔接，所以能够扩大掩模图案形成的工艺窗口。进而，间距方向和对角方向的蚀刻特性(沉积物的生成与蚀刻进行的平衡)得到改善，使无间隙化提高，能够缩短蚀刻时间。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种微透镜的制造方法，其是在形成于基板上的透镜材料层上，在不经由熔融工序的情况下，形成具有图案形状的掩模层，与所述透镜材料层一起进行干式蚀刻，将所述掩模层的图案形状转印到所述透镜材料层而形成微透镜。
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