[发明专利]液浸构件及曝光装置有效
| 申请号： | 201380029828.3 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN104508560B | 公开（公告）日： | 2018-05-22 |
| 发明（设计）人： | 佐藤真路 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的液浸构件(5)，是以从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满的方式，在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(15)。液浸构件，具备：具有第1下面(24)的第1构件(21)，具有通过间隙与第1下面对向的第2上面(25)与物体可对向的第2下面(26)、相对第1构件为可动的第2构件(22)，以及相对光路在第2下面的外侧回收来自第2下面与物体之间的第2空间(SP2)的液体的至少一部分的回收部(23)。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面与相对该光路配置在该第1下面的外侧的第1回收部；以及第2构件，在该第1构件的下方配置在该光路周围的至少一部分，具有与该第1下面隔着间隙对向的第2上面与该物体可对向的第2下面，相对该第1构件为可动的，其中该物体可对向于该第1回收部的至少一部分，以及其中该第1回收部回收该第1构件与该第2构件之间的第1空间中的该液体的至少一部分，并且回收来自该第2构件与该物体之间的第2空间的该液体的至少一部分，以及其中该第2构件能于该物体的移动方向移动，该第2构件是以该第2构件与该物体之间的相对速度变小的方式移动。
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