[发明专利]用于关键腔室组件的等离子体喷洒涂布工艺改良

摘要

在将等离子体喷洒的含钇氧化物涂层施加到物件上的最优化方法中，选择介于约89–91千瓦(kW)之间的等离子体功率用于等离子体喷洒系统。气体以约115-130升/分的选择的气体流动速率流经该等离子体喷洒系统。以约10–30克/分的选择的粉末进料速率供给包括含钇氧化物的陶瓷粉末进入该等离子体喷洒系统。然后基于该选择的粉末、该选择的气体流动速率及该选择的粉末进料速率于该物件上形成钇占主要部分的陶瓷涂层。

主权项

一种方法，包含以下步骤：选择等离子体功率用于等离子体喷洒系统，所述等离子体功率介于约89–91kW之间；使气体以选择的气体流动速率流经所述等离子体喷洒系统，所述选择的气体流动速率为约115‑130升/分；以选择的粉末进料速率供给粉末进入所述等离子体喷洒系统，所述粉末包括含钇氧化物，所述选择的粉末进料速率为约10–30克/分；以及基于所述选择的粉末、所述选择的气体流动速率及所述选择的粉末进料速率于基板上形成陶瓷涂层。