[发明专利]与间接的冷却装置相匹配的靶有效
申请号: | 201380018809.0 | 申请日: | 2013-03-05 |
公开(公告)号: | CN104204286B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | S.克拉斯尼策尔;J.哈格曼 | 申请(专利权)人: | 欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 陈浩然,李婷 |
地址: | 瑞士普*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及靶,其构造为用于气相沉积方法的材料源、带有前侧和背侧,其特征在于,在背侧处粘有自粘性的碳薄膜。靶可构造为用于溅射方法和/或用于阴极火花蒸镀方法的材料源。特别有利地,靶用在带有间接的冷却部的涂覆源中,其中,自粘性的碳薄膜与膜片处于面接触中,膜片为冷却通道的部件。 | ||
搜索关键词: | 间接 冷却 装置 匹配 | ||
【主权项】:
一种涂覆源,包括带有前侧和背侧的靶(601,701),其背侧布置在源支架(605)的壁处,在源支架中集成有带有冷却通道(609)的间接的冷却部,其中,靶(601,701)通过合适的措施固定在源支架(605)上,且源支架(605)的壁构造为使冷却通道(609)与靶(601,701)的背侧分开的柔性的膜片(603),靶(601,701)布置在该壁处,其特征在于,在靶的背侧处和/或在源支架的这样的壁处粘有自粘性的碳薄膜(607,705),靶布置在源支架的该壁处。
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