[发明专利]皮肤治疗系统和方法

摘要

提供了一种用于治疗上皮组织层(3)的系统(101)。该系统包括储器(107)，用于容纳一定量的可流动介质，被设置成在介质被容纳在储器内时使介质与上皮组织层的表面(5)接触；用于至少在预定的脉冲时间期间产生激光束(11)的光源(109)；和用于将激光束聚焦到焦点(15)内并且用于将焦点定位在目标位置的光学系统。焦点的目标位置在储器内并且在介质被容纳在储器中时，在介质内；并且焦点的尺寸和所产生的激光束的功率使得，在焦点中，激光束具有高于介质的特征阈值的功率密度，高于该特征阈值，对于预定的脉冲时间，在介质中发生激光诱导光学击穿事件。还提供了一种用于治疗上皮组织层的方法。

主权项

一种用于治疗上皮组织层(3)的系统(1,101)，所述系统包括：储器(7,107)，在操作中，容纳一定量的可流动介质，被布置成在所述介质被容纳在所述储器中时，使所述介质能够接触所述上皮组织层的表面(5)；用于在至少预定的脉冲时间期间产生激光束(11)的光源(9，109)，和用于将所述激光束聚焦到焦点(15)内并且用于将所述焦点定位在目标位置的光学系统(13,113)；其中所述焦点的所述目标位置在所述储器内并且在所述介质被容纳在所述储器中时，在所述介质内；并且其中所述焦点的尺寸和所产生的激光束的功率使得，在所述焦点中，所述激光束具有高于所述介质的特征阈值的功率密度，高于所述特征阈值，对于所述预定的脉冲时间，在所述介质中发生激光诱导光学击穿事件；其特征在于，操作中，所述目标位置位于距所述上皮组织层(3)的所述表面(5)小于3mm的距离处。