[发明专利]包含末端官能化的离子有机硅的个人护理组合物

摘要

个人护理组合物，含有至少一种个人护理组分和至少一种末端官能化的离子有机硅。

主权项

个人护理组合物，其包括至少一种个人护理组分和至少一种末端官能化的离子有机硅，其中所述的末端官能化的离子有机硅具有下式:M1a M2b M3cD1d D2e D3f T1g T2h T3i Qj     (I)其中:M1＝R1R2R3SiO1/2M2＝R4R5R6SiO1/2M3＝R7R8R9SiO1/2D1＝R10R11SiO2/2D2＝R12R13SiO2/2D3＝R14R15SiO2/2T1＝R16SiO3/2T2＝R17SiO3/2T3＝R18SiO3/2Q＝SiO4/2其中:R1，R2，R3，R5，R6，R8，R9，R10，R11，R13，R15和R16各自独立地是具有1到60个碳原子的脂肪族、芳香族或氟代一价烃基团；R4、R12和R17各自独立地是具有离子对并具有式‑A‑Ix‑Mny+的一价基团，或具有式‑R'‑N+(R)2‑R'‑I–的两性离子，其中A是具有至少一个间隔原子的间隔结构部分，该间隔结构部分选自二价烃基和烃氧基，I是离子基团，选自磺酸根–SO3‑和硫酸根–OSO3‑，R'是具有1到20个碳原子的二价烃基，R是具有1到20个碳原子的一价烃基，R'是具有2到20个碳原子的二价烃基，和M各自独立地是氢或独立地选自碱金属、碱土金属、过渡金属、季铵基和磷鎓基中的阳离子；R7、R14和R18各自独立地是‑CH2CH(R19)(CnH2n)‑O‑(C2H4O)o‑(C3H6O)p‑(C4H8O)q‑R19其中R19是氢或如上所定义的R1基团；上标x和y是正整数，受到x＝ny的限制；下标n的值各自独立地为0到6和下标o、p和q的值各自独立地为0到1000，受到o+p+q≥1的限制；和，下标a，c，d，e，f，g，h，i和j各自独立地是零或正整数，受到的限制为2≤a+b+c+d+e+f+g+h+i+j≤4500和b≥2。