[发明专利]除去设备

摘要

本发明涉及一种除去设备，其用于从液体导管系统中的液体中除去气泡和/或灰尘颗粒或者用于从导管系统中的第一液体中除去第二液体，所述除去设备包括：-用于主要液流的主要通道，所述主要通道具有入口和出口，所述入口和出口被构造成连接至所述导管系统，-壳体，所述壳体限定内部空间，-至少一个供应通道，所述供应通道从所述主要通道延伸至所述内部空间，-至少一个返回通道，所述返回通道直接或间接地经由返回腔从所述内部空间延伸返回至所述主要通道，-在所述内部空间中的至少一个静区，在使用中，在所述静区中液体具有比在所述主要通道中基本上更小的速度，所述静区被构造成允许灰尘颗粒或相对重质的液体沉淀在所述壳体的下方端部处和/或气泡或相对轻质的液体上升至所述壳体的上方端部处。所述除去设备进一步包括用于从所述壳体中除去灰尘颗粒或相对重质的液体，和/或气体或相对轻质的液体的装置。

主权项

除去设备(10)，所述除去设备(10)用于从液体导管系统中的液体中除去气泡和/或灰尘颗粒或者用于从导管系统中的第一液体中除去第二液体，所述除去设备包括：‑用于主要液流(100)的主要通道(14)，所述主要通道具有入口(16)和出口(18)，所述入口(16)和出口(18)被构造成连接至所述导管系统，‑壳体(20)，所述壳体(20)限定内部空间(22)，‑至少一个供应通道(36A、36B)，所述供应通道(36A、36B)从所述主要通道延伸至所述内部空间，‑至少一个返回通道(60)，所述返回通道(60)直接或间接地经由返回腔(64)从所述内部空间延伸返回至所述主要通道，‑在所述内部空间中的静区(23)，在使用中，在所述静区(23)中液体具有比在所述主要通道中基本上更小的速度，所述静区被构造成允许灰尘颗粒或相对重质的液体沉淀在所述壳体的下方端部(27)处和/或气泡或相对轻质的液体上升至所述壳体的上方端部(30)处。