[发明专利]构造物的制造方法及制造设备有效
| 申请号： | 201380002895.6 | 申请日： | 2013-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN103764377A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 谷内洋;中岛一浩 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B29C67/00 | 分类号： | B29C67/00 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种构造物的制造方法，其包括：设置待成为构造物的一部分的第一材料层和限制构件的堆叠体，其中第一材料层设置于处于形成过程中的构造物的表面，限制构件的一部分设置于第一材料层的与处于形成过程中的构造物的表面相反的表面；在限制构件和处于形成过程中的构造物的表面之间设置支撑构件；去除限制构件；并且在通过去除限制构件而露出的第一材料层的表面和支撑构件的表面上设置待成为构造物的一部分的第二材料层。 | ||
| 搜索关键词： | 构造 制造 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种构造物的制造方法，其包括：设置待成为所述构造物的一部分的第一材料层和限制构件的堆叠体，其中所述第一材料层设置于处于形成过程中的所述构造物的表面，所述限制构件的一部分设置于所述第一材料层的与处于形成过程中的所述构造物的表面相反的表面，并且所述限制构件的其它部分设置于处于形成过程中的所述构造物的表面的上方；设置支撑构件，以便填充所述限制构件和处于形成过程中的所述构造物的表面之间的空间；去除所述限制构件；并且在通过去除所述限制构件而露出的所述第一材料层的表面和所述支撑构件的表面上设置待成为所述构造物的一部分的第二材料层。
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