[实用新型]生物质两段式气流床气化装置

摘要

本实用新型涉及一种生物质两段式气流床气化装置及气化方法，包括炉壳、炉壳内设有气化室和合成气冷却室，气化室分为上、下段气化室，上段气化室顶部设有顶置合成气出口，上、下段气化室的轴线垂直相交，炉壳底部设置有渣池，渣池底部设有渣池排渣口，上段端气化室四周设有至少一层侧面工艺烧嘴室，至少两个侧面工艺烧嘴对称设置在侧面工艺烧嘴室内，所述下段气化室两侧同轴设有对置式工艺烧嘴室，两个对置式工艺烧嘴同轴设于对置式工艺烧嘴室，侧面工艺烧嘴室与下段气化室之间设有至少两个二次给氧喷枪室，二次给氧喷枪室内安装有二次给氧喷枪。本实用新型可连续对纯氧燃气进行气化，与间歇式气化工艺相比产气量增加1倍。

主权项

一种生物质两段式气流床气化装置，包括炉壳、炉壳内设有气化室和合成气冷却室，其特征是：所述气化室分为上段气化室和下段气化室，所述上段气化室顶部设有顶置合成气出口，所述下段气化室通过中部喉口段与所述上段气化室连接，所述上、下段气化室的轴线垂直相交，所述合成气冷却室设置在下段气化室下方，气化室锥形渣口设置在下段气化室底部，所述炉壳底部设置有渣池，渣池底部设有渣池排渣口，所述上段端气化室四周设有至少一层侧面工艺烧嘴室，至少两个侧面工艺烧嘴对称设置在侧面工艺烧嘴室内，所述下段气化室两侧同轴设有对置式工艺烧嘴室，两个对置式工艺烧嘴同轴设于对置式工艺烧嘴室，所述侧面工艺烧嘴室与下段气化室之间的上段气化室上设有至少两个二次给氧喷枪室，所述二次给氧喷枪室内安装有二次给氧喷枪。