[实用新型]一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置

摘要

本实用新型涉及一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置。本一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置，包括：集成盒装置，该集成盒装置包括用于收集靶材表面颗粒物的盒子，盒子内形成容置空间，还包括位于盒子上方的擦除装置和位于擦除装置下方的上下驱动装置；导向装置，该导向装置包括安装在盒子两端的固定轴，一端固定轴的端部设有轴承，轴承可滑动地安装在轴承导向轨道中，另一端固定轴的端部设有连接件；水平驱动装置，通过与导向装置另一端固定轴端部的连接件相连，连接并设置在集成盒装置的下方，以驱动集成盒装置做水平往返运动。本实用新型可用于防止靶材物质在暗区内成团簇状或片状脱落对基板造成的不良。 

主权项

一种自动清理磁控溅射设备平面靶材表面的装置，其特征在于：包括：集成盒装置（4），该集成盒装置（4）包括用于收集靶材（3）表面颗粒物的上方开口的长方体盒子（4‑1），盒子（4‑1）内形成容置空间，还包括至少有一部分位于盒子（4‑1）上方的擦除装置（4‑2）和位于所述擦除装置（4‑2）下方用于驱动所述擦除装置（4‑2）做上下往返运动的上下驱动装置（4‑3），所述上下驱动装置（4‑3）设置在所述盒子（4‑1）的内部；导向装置，该导向装置包括安装在盒子（4‑1）两端、且与盒子（4‑1）长度方向平行的固定轴（6），所述一端固定轴（6）的端部设有轴承（8），所述轴承（8）可滑动地安装在轴承导向轨道（9）中、能够沿盒子（4‑1）宽度方向做往返运动，另一端固定轴（6）的端部设有连接件； 水平驱动装置，通过与所述导向装置另一端固定轴（6）端部的连接件相连，连接并设置在所述集成盒装置（4）的下方，以驱动所述集成盒装置（4）做水平往返运动。