[实用新型]曝光机再次曝光校正装置有效
| 申请号： | 201320636264.7 | 申请日： | 2013-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN203535379U | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 蒋恒亮;张永福;邓志强 | 申请（专利权）人： | 郴州恒维电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 郴州大天知识产权事务所(普通合伙) 43212 | 代理人： | 徐起堂 |
| 地址： | 424213 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光机再次曝光校正装置，包括曝光平台和固定有曝光模板的盖板，还包括光标探头和显示器，所述光标探头固定于曝光机体上，该光标探头与显示器电连接，使固定有曝光模板的盖板盖上曝光平台后光标探头能读取曝光模板上的标记、显示器能显示光标探头探测的曝光模板的标记。本实用新型结构简单，使用方便，曝光精度高，质量好，生产成本低，经济效益高。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 再次 校正 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光机再次曝光校正装置，包括曝光平台（2）和固定有曝光模板的盖板（1），其特征在于：还包括光标探头（4）和显示器（5），所述光标探头（4）固定于曝光机体上，该光标探头（4）与显示器（5）电连接，使固定有曝光模板的盖板（1）盖上曝光平台（2）后光标探头（4）能读取曝光模板上的标记、显示器（5）能显示光标探头（4）探测的曝光模板的标记。
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