[实用新型]光掩模板导向片去除机有效
申请号: | 201320475833.4 | 申请日: | 2013-08-05 |
公开(公告)号: | CN203422555U | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 凌震军 | 申请(专利权)人: | 上海凸版光掩模有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种光掩模板导向片去除机,包括支架;所述支架包括面板及用以支撑所述面板的至少两个支脚;所述面板中设有第一通槽;所述第一通槽侧边设有台阶、第二通槽及第三通槽;用以加热导向片的两个加热电极,分别装设于两个电极支架上;两个电极支架装设于靠近所述第三通槽一侧的支脚上;所述加热电极顶面正对所述第三通槽;电源模块,通过导线分别与两个加热电极连接;定时模块及温控模块,分别与所述电源模块相连;用以固定光掩模板的至少两个转动压片,装设于所述第一通槽纵向两侧的所述面板上。采用本实用新型的光掩模板导向片去除机去除导向片温度可调节,加热接触面增大,能同时加热两个导向片,省时省力,工艺受控。 | ||
搜索关键词: | 模板 导向 去除 | ||
【主权项】:
一种光掩模板导向片去除机,其特征在于,所述光掩模板导向片去除机至少包括:支架;所述支架包括面板及安装于所述面板横向两侧用以支撑所述面板的至少两个支脚;所述面板中设有第一通槽;所述第一通槽纵向侧边的底部相向延伸设有用于承载光掩模板的台阶;所述第一通槽横向两侧分别设有第二通槽及第三通槽;所述第二通槽的长度小于所述第一通槽的长度;所述第三通槽的长度大于所述第一通槽的长度;用以加热导向片的两个加热电极;所述加热电极分别装设于两个电极支架上;两个电极支架装设于靠近所述第三通槽一侧的支脚上;所述加热电极顶面正对所述第三通槽;电源模块;所述电源模块通过导线分别与两个加热电极连接;用以设定加热时间的定时模块及用以设定加热温度的温控模块,所述定时模块及所述温控模块分别与所述电源模块相连;用以固定光掩模板的至少两个转动压片,装设于所述第一通槽纵向两侧的所述面板上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海凸版光掩模有限公司,未经上海凸版光掩模有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320475833.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于落地铣镗床镗轴导向浮动支撑机构
- 下一篇:一种弹性丝锥夹头
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备