[实用新型]五层共挤消光离型膜有效
申请号: | 201320466014.3 | 申请日: | 2013-07-30 |
公开(公告)号: | CN203419392U | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 郭川斌;刘文忠;迟富轶;兰晓舰;杨永新 | 申请(专利权)人: | 天津市天塑科技集团有限公司包装材料分公司 |
主分类号: | B65D65/40 | 分类号: | B65D65/40 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 朱瑜 |
地址: | 300381 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种五层共挤消光离型膜,特征是:包括经共挤出双向拉伸的上表层、上次表层、芯层、下次表层和下表层五层结构,所述消光离型膜的层状布局结构为:所述上表层为离型层,上次表层为均聚层,芯层为均聚功能层,下次表层为均聚层,下表层均为亚光离型层。优点是:本消光离型膜的上表层、上次表层、芯层、下次表层和下表层通过共挤出一次成型,在制作过程中无需再复合、淋膜涂硅等工艺,简化了加工工艺,降低制造成本。本膜具有离型及外观亚光效果好、耐温性高不变形、制品剥离性好等优点。在全部生产过程不会产生任何有害物质,无环境污染,使用后的消光离型膜可全部回收制作其它塑料制品,不仅节约能源,而且还降低用户的使用成本。 | ||
搜索关键词: | 五层共挤消光离型膜 | ||
【主权项】:
一种五层共挤消光离型膜,其特征在于:包括经共挤出双向拉伸的上表层(1)、上次表层(2)、芯层(3)、下次表层(4)和下表层(5)五层结构,所述消光离型膜的层状布局结构为:所述上表层(1)为离型层、上次表层(2)为均聚层、芯层(3)为均聚功能层、下次表层(4)为均聚层、下表层(5)均为亚光离型层。
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