[实用新型]一种高亮面合成革有效
| 申请号： | 201320434828.9 | 申请日： | 2013-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN203420153U | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 孔中平;马辉;胡道飞;胡秋菊;任立鸣;陆桂香 | 申请（专利权）人： | 张家港宏国化学工业有限公司 |
| 主分类号： | D06N3/00 | 分类号： | D06N3/00;B32B33/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫;汪青 |
| 地址： | 215624 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种高亮面合成革，包括基布层，所述的合成革还包括覆设在基布层上的第一亮面处理层、覆设在第一亮面处理层上的透明粘结层、覆设在透明粘结层上的第二亮面处理层。本实用新型通过采用第一亮面处理层和第二亮面处理层，使得合成革的常温耐寒屈曲物性得到很大的提升，可满足外销鞋的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高亮面 合成革 | ||
【主权项】：
一种高亮面合成革，包括基布层（1），其特征在于：所述高亮面合成革还包括覆设在所述的基布层（1）上的第一亮面处理层（2）、覆设在所述的第一亮面处理层（2）上的透明粘结层（3）、覆设在所述的透明粘结层（3）上的第二亮面处理层（4）。
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