[实用新型]一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃有效
申请号: | 201320413751.7 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN203543249U | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 林嘉宏 | 申请(专利权)人: | 台玻天津玻璃有限公司 |
主分类号: | B32B17/06 | 分类号: | B32B17/06;B32B15/04;B32B9/04 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 彭逊 |
地址: | 301609 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述膜层从玻璃基片依次向外包括:第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层。本实用新型对于可见光波段具有很高的透过率,能保证良好的自然采光,同时又能有效的限制太阳热辐射的透过,尤其是近红外线的透过。本实用新型通过其自身的独特膜层结构,使得高透的低辐射镀膜玻璃同样具有超强的耐机械性能、抗化学腐蚀性能,解决了高透低辐射镀膜玻璃异地加工中容易出现的脱膜、划伤、极易氧化的难题。 | ||
搜索关键词: | 一种 异地 加工 高透低 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【主权项】:
一种可异地加工的高透低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片和膜层,其特征在于,所述膜层从玻璃基片依次向外包括:第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层、第四电介质层、第五电介质层; 第一电介质层为SiNx,膜层厚度为20‑50nm; 第二电介质层为TiOx,膜层厚度为3‑10nm; 第三电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5‑15nm; 第一阻挡层为NiV,膜层厚度为1‑3nm; 功能层为Ag,膜层厚度为5‑15nm; 第二阻挡层为NiV,膜层厚度为1‑3nm; 第四电介质层为ZnOxNy,膜层厚度为5‑15nm; 第五电介质层为SiNx,膜层厚度为20‑50nm。
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