[实用新型]大型磁控溅射ITO靶材有效
| 申请号： | 201320372527.8 | 申请日： | 2013-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN203295593U | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 刘晓伟;王守坤;郭会斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种通过齿状拼接单元提高接合面粗糙度以实现吸附溅射出的粉尘颗粒的大型磁控溅射ITO靶材；该大型磁控溅射ITO靶材，包括至少两个靶材单元，在相邻两所述靶材单元的对接处设有齿状拼接单元。本实用新型采用齿状拼接单元的设计；可有效增加相邻两靶材单元接合面的面积，以提高其粗糙度，这样可以最大程度地吸附由于磁控溅射ITO靶材所溅射出的粉尘颗粒，防止其无序飞溅，以减少粉尘颗粒落到显示基板上的数量，可以有效的提升ITO靶材的清理周期，降低靶材发尘产生的负面影响；从客观上有效保证了ITO层的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 大型 磁控溅射 ito 靶材 | ||
【主权项】：
一种大型磁控溅射ITO靶材，其特征在于，包括至少两个靶材单元，在相邻两个所述靶材单元的对接处设有齿状拼接单元。
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