[实用新型]一种多结构耦合磁场兼容的离子镀装置有效
| 申请号： | 201320193505.5 | 申请日： | 2013-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN203159702U | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌 | 申请（专利权）人： | 温州职业技术学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 325035 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及表面防护涂层领域，具体地说是一种多结构耦合磁场兼容的离子镀装置，所述多结构耦合磁场兼容的离子镀装置具有支撑靶材的弧源主体、内耦合磁场发生装置，双层水冷的过渡传输法兰套与两套外耦合磁场发生装置（Ⅰ级、Ⅱ级外耦合磁场发生装置）、以及中间磁轭形成的多磁场结构适应性控制磁场组；通过靶材背面的内耦合磁场发生装置与传输法兰套上的两套外耦合磁场发生装置的配合，形成约束弧斑运动的靶面动态拱形磁场与传输空间轴向聚焦导引磁场兼容的复合磁场结构。本实用新型可达到既改善弧斑放电，控制弧斑运动，减少颗粒发射，又改善传输空间的磁场分布，提高等离子体的传输效率和密度等镀膜关键参数的双重效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 耦合 磁场 兼容 离子镀 装置 | ||
【主权项】：
一种多结构耦合磁场兼容的离子镀装置，其特征在于，具有支撑靶材的弧源主体、内耦合磁场发生装置，双层水冷的过渡传输法兰套与两套外耦合磁场发生装置：Ⅰ级外耦合磁场发生装置和Ⅱ级外耦合磁场发生装置、以及中间磁轭形成的多磁场结构适应性控制磁场组；通过靶材背面的内耦合磁场发生装置与传输法兰套上的两套外耦合磁场发生装置的配合，形成约束弧斑运动的靶面动态拱形磁场与传输空间轴向聚焦导引磁场兼容的复合磁场结构。
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