[实用新型]发光装置及相关投影系统有效

专利信息
申请号: 201320177678.8 申请日: 2013-04-10
公开(公告)号: CN203258494U 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 曹亮亮;胡飞 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: F21S8/00 分类号: F21S8/00;F21V5/04;G03B21/20;F21Y101/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳市南山区西丽*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型实施例公开了一种发光装置及相关投影系统,该发光装置包括位于腔体内的发光元件阵列和透镜阵列,每个透镜的底部的中心区域设有一凹腔,该凹腔的表面为内曲面,每个透镜还包括位于背向底部的一侧的外曲面;各发光元件分别放置在一个透镜的凹腔内,其所发光依次经透镜的内曲面和外曲面折射出射并在腔体的出光面上形成从中心往旁边递减的光斑,其中70%以上的内曲面和80%以上的外曲面使入射光束往远离该透镜的中心轴的方向偏折,且偏折角度均小于30度;相邻两个光斑相互部分叠加,以在腔体的出光面的至少部分上形成均匀照度。本实用新型能够提供一种光损耗较少的发光装置。
搜索关键词: 发光 装置 相关 投影 系统
【主权项】:
一种发光装置,其特征在于,包括: 腔体,该腔体包括出光面; 发光元件阵列,包括至少两个发光元件,其中每个发光元件均包括发光面;该发光元件阵列位于所述腔体内,且各发光元件的发光面均朝向该腔体的出光面; 透镜阵列,其中每个透镜的底部的中心区域设有第一凹腔,所述发光元件阵列中各个发光元件分别放置在该透镜阵列中的一个透镜的第一凹腔内;每个透镜背向其底部的一侧设有一个外曲面,而每个透镜的第一凹腔的表面为内曲面;各发光元件所发光从与其对应的透镜的内曲面折射入射至该透镜内,并从该透镜的外曲面折射出射至所述腔体的出光面形成预定分布,其中70%以上的内曲面和80%以上的外曲面使入射光束往远离该透镜的中心轴的方向偏折,且偏折角度均小于30度; 每个发光元件所发光经与其对应的透镜后在所述腔体的出光面上形成的完整光斑覆盖该出光面的至少部分,且该完整光斑的照度分布为从中心往旁边递减; 任意相邻两个发光元件之间的距离小于其中任意一个发光元件在所述腔体的出光面上形成的光斑的口径,使得所述发光元件阵列中各发光元件在所述腔体的出光面上形成的光斑相互部分叠加,以在所述腔体的出光面的至少部分上形成均匀照度。
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