[实用新型]光源照射装置有效

专利信息
申请号: 201320130137.X 申请日: 2013-03-21
公开(公告)号: CN203133992U 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 邢飞 申请(专利权)人: 邢飞
主分类号: G07D7/12 分类号: G07D7/12;F21V7/22
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 高萍
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 装置包括光源、容置箱,所述光源安装在容置箱上,容置箱内放置鉴赏品。容置箱为几何形状和/或是几何形状的组合,容置箱为中空结构,中空部分为开放式空间,开放式空间形成放置鉴赏品的容置空间,容置箱上还活动安装有反射弧片,反射弧片位于光源的上方,所述反射弧片围绕光源转动调节。所述光源可以是单一光源组合,也可以是不同波长、不同类型光源组合,每路光源单独控制,贴近光源附设有反光弧片。本实用新型是一种照射高度可调节、照射面积可调节、照射反射角度可调节、线形光源单元构件可分拆组装的特殊光源照射装置,可满足各种不同形状、体积、不同特殊光源照射收藏品、艺术品鉴赏的不同要求,并同时具有轻便、易用、便携的特点。
搜索关键词: 光源 照射 装置
【主权项】:
光源照射装置,包括光源、容置箱,其特征在于:所述光源安装在容置箱上,容置箱内放置鉴赏品,所述光源是单一光源组合和/或不同波长、不同类型光源组合,每路光源电路单独控制,容置箱为几何形状和/或是几何形状的组合,容置箱为中空结构,中空部分为开放式空间,开放式空间形成放置鉴赏品的容置空间,容置箱上还活动安装有反射弧片,反射弧片位于光源的上方,所述反射弧片围绕光源转动调节。
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