[实用新型]一种发光装置及投影系统有效

专利信息
申请号: 201320095838.4 申请日: 2013-03-01
公开(公告)号: CN203217229U 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 胡飞;侯海雄 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/10;G02B27/09;F21V13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳市南山区西丽*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型实施例公开了一种发光装置及投影系统,包括:第一激光阵列、第二激光阵列和第一合光装置,第一激光阵列发出的第一光束和第二激光阵列发出的第二光束分别被第一合光装置透射和反射而合为第一合光,第一光束与第二光束的光斑的长轴方向平行,第一光束与第二光束入射到第一合光装置的光斑沿第一光束的光斑的短轴方向交替分布;用于发出第三光束的第三激光阵列,该第三光束与第一合光经第二合光装置形成出射光;其中,第三光束中光斑的长轴方向与第一合光中光斑的长轴方向相垂直,第三光束与第一合光入射到第二合光装置表面的光斑沿该第一合光的激光光斑的长轴方向交替分布。本实用新型的实施例提供了一种高光功率密度的发光装置。
搜索关键词: 一种 发光 装置 投影 系统
【主权项】:
一种发光装置,其特征在于,包括: 第一激光阵列、第二激光阵列和第一合光装置,所述第一激光阵列发出的第一光束和第二激光阵列发出的第二光束分别被第一合光装置透射和反射而合为一束并构成第一合光,第一光束中激光光斑的长轴方向与第二光束中激光光斑的长轴方向平行,第一光束与第二光束入射到所述第一合光装置表面的激光光斑沿该第一光束的激光光斑的短轴方向交替分布; 第三激光阵列和第二合光装置,所述第三激光阵列用于发出第三光束,该第三光束与所述第一合光分别被第二合光装置透射和反射而共同形成出射光,或第三光束与所述第一合光分别被第二合光装置反射和透射而共同形成出射光; 其中,第三光束中激光光斑的长轴方向与第一合光中激光光斑的长轴方向相垂直,第三光束与第一合光入射到所述第二合光装置表面的激光光斑沿该第一合光的激光光斑的长轴方向交替分布。
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