[实用新型]大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置有效
| 申请号： | 201320059449.6 | 申请日： | 2013-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN203065568U | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 郭爱云;黄国兴;孙桂红;祝海生;梁红;黄乐 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 湘潭市汇智专利事务所 43108 | 代理人： | 颜昌伟 |
| 地址： | 411104 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置。该装置包括安装架和多块修正小滑块；所述多块修正小滑块并行排列，并且垂直安装在矩形安装架的至少一边内框上，每个修正小滑块均可相对于安装架滑动；修正小滑块伸出端的边缘在矩形安装架内框区域形成调整曲线，所述的安装架和修正小滑块均采用不导磁材料。本实用新型提高了一定等离子刻蚀速率上的有效沉积速率。还具有结构简单，维护、使用方便的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 大面积 连续 磁控溅射 镀膜 均匀 调整 装置 | ||
【主权项】：
一种大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置，其特征在于：包括安装架和多块修正小滑块；所述多块修正小滑块并行排列，并且垂直安装在矩形安装架的至少一边内框上，每个修正小滑块均可相对于安装架滑动；修正小滑块伸出端的边缘在矩形安装架内框区域形成调整曲线，所述的安装架和修正小滑块均采用不导磁材料。
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