[发明专利]可射出将干涉条纹的影响降低的光的光源装置以及采用该光源装置的投影仪有效
| 申请号： | 201310757214.9 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103885276A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 黑崎秀将 | 申请（专利权）人： | 卡西欧计算机株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;F21V5/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的光源装置及投影仪，为了减小激光的干涉条纹的厚度，特征在于：①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性；或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置；或者③使准直透镜的聚光度分别不同。 | ||
| 搜索关键词： | 射出 干涉 条纹 影响 降低 光源 装置 以及 采用 投影仪 | ||
【主权项】：
一种光源装置，具备：作为半导体激光发光元件的多个光源；微透镜阵列，由以各光轴相互平行且不一致的方式排列的多个微透镜构成，使来自上述各光源的出射光分别均匀化；以及聚光透镜，将透射过上述微透镜阵列并被均匀化后的各光源的出射光聚光以使其在规定面上重叠；该光源装置的特征在于，按照上述微透镜阵列的来自上述各光源的出射光分别所照射的每个区域，上述微透镜的透镜特性不同。
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