[发明专利]反应腔室的清洗方法在审
| 申请号： | 201310752377.8 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104741340A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 王京 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;C30B33/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供的反应腔室的清洗方法，其包括以下步骤：主清洗步骤，向反应腔室内通入不含氟气体，并开启激励电源，而偏压电源保持关闭状态，以快速清除沉积在反应腔室内的绝大部分反应副产物；辅助清洗步骤，继续向反应腔室内通入不含氟气体，并保持所述激励电源开启，同时开启偏压电源，以清除残留在所述反应腔室各个位置处的反应副产物；其中，所述不含氟气体为氧气和惰性气体的混合气体。本发明提供一种反应腔室的清洗方法，其不仅可以延长湿法清洗的周期，而且还可以提高清洗效率，从而可以保持腔室环境的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种反应腔室的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：主清洗步骤，向反应腔室内通入不含氟气体，并开启激励电源，而偏压电源保持关闭状态，以快速清除沉积在反应腔室内的绝大部分反应副产物；辅助清洗步骤，继续向反应腔室内通入不含氟气体，并保持所述激励电源开启，同时开启偏压电源，以清除残留在所述反应腔室各个位置处的反应副产物；其中，所述不含氟气体为氧气和惰性气体的混合气体。
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