[发明专利]掩模板面型整形装置有效
| 申请号： | 201310752194.6 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104749902B | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李玲雨;李玉龙 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模板面型整形装置，包括吸盘、吸盘安装框架以及气动控制系统；其中，所述吸盘安装框架设置在掩模台上方，所述吸盘分散安装在所述吸盘安装框架的底部；所述气动控制系统用于控制所述吸盘吸取或释放掩模板。本发明的吸盘的设置避开了掩模板上的梯形照明视场，使得光束100%照射到掩模上，提高了曝光效率；掩模板面型整形装置单独设置，不安装在光刻机上，减少了掩模板的重量负荷，且掩模板面型整形装置不与光刻机中的任何部件接触，不会给光刻机带来外部的震动。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 整形 装置 | ||
【主权项】：
一种掩模板面型整形装置，其特征在于，包括：若干吸盘、吸盘安装框架以及气动控制系统；其中，所述吸盘安装框架设置在掩模台上方，所述吸盘与所述掩模板的关系为非接触式，所述吸盘的底部具有一环形出气口，出气方向由环形四周排出，使所述吸盘底部中心形成负压，若干所述吸盘分散安装在所述吸盘安装框架的底部；所述气动控制系统用于控制所述吸盘吸取或释放掩模板的动作。
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