[发明专利]一种非接触式光刻机调平调焦系统、方法和光刻机有效
| 申请号： | 201310716930.2 | 申请日： | 2013-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN103631098A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 杨若夫;敖明武 | 申请（专利权）人： | 成都虹博宇光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207 |
| 代理公司： | 四川力久律师事务所 51221 | 代理人： | 林辉轮;王芸 |
| 地址： | 610000 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 发明公开了一种非接触式光刻机调平调焦系统，包括至少三个光谱共焦位移传感器，用于采集光刻机的掩膜版下表面与位于光刻机上的样片表面的光刻胶层的上表面之间的间隙距离数据；信号处理电路，用于根据所述光谱共焦位移传感器采集的所述间隙距离数据计算处理，输出控制信号到光刻机的承片机构和升降机构，实现对样片的调平与调焦控制，使样片表面的光刻胶层的上表面与所述掩膜版的下表面之间的间隙距离保持在预定工作距离内。本发明同时公开了非接触式光刻机调平调焦方法以及具有所述调平调焦系统的光刻机。本发明取代了现有非接触式调焦调平装置中复杂的光学结构部件，降低了复杂性，容易实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接触 光刻 平调 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种非接触式光刻机调平调焦系统，其特征在于，包括：至少三个光谱共焦位移传感器，用于采集光刻机的掩膜版下表面与位于光刻机上的样片表面的光刻胶层的上表面之间的间隙距离数据；信号处理电路，用于根据所述光谱共焦位移传感器采集的所述间隙距离数据计算处理，输出控制信号到光刻机的承片机构和升降机构，实现对样片的调平与调焦控制，使样片表面的光刻胶层的上表面与所述掩膜版的下表面之间的间隙距离保持在预定工作距离内。
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