[发明专利]一种基于投影图像的处理方法及装置有效

专利信息
申请号: 201310687010.2 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN103686107B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 许春景;黎伟;刘健庄 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;G06T5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明适用于图像处理领域,提供了基于投影图像的处理方法和装置,其中,方法包括获取投影表面上的投影图像在成像设备中的二次成像图像,投影图像是由预设的参考图像投射在投影表面形成,参考图像中预设了参考标识点;获取二次成像图像中的二次像标识点;根据二次像标识点在二次成像图像中的位置参数基于参考标识点在参考图像中的位置参数的变化来获取失真系数;根据失真系数对待投影图像进行修正。使得经过处理的投影图像的失真变小甚至不失真,从而提高图像投影设备的环境适应能力。
搜索关键词: 一种 基于 投影 图像 处理 方法 装置
【主权项】:
一种基于投影图像的处理方法,其特征在于,包括如下方法:获取投影表面上的投影图像在成像设备中的二次成像图像,所述投影图像为由投影设备将预设的参考图像投射至所述投影表面上所成的图像,所述预设的参考图像中设置有参考标识点,所述参考标识点经投影后在所述投影图像中形成一次像标识点;所述一次像标识点在所述二次成像图像中形成的像点为二次像标识点,所述成像设备至少为两个,以构成立体视觉系统;通过所述立体视觉系统获取二次像标识点的三维参数;并将所述三维参数拟合成一个平面,将所述三维参数垂直映射到所述平面,得到二维坐标点,所述二维坐标点为所述二次像标识点的位置参数;根据所述二次像标识点的位置参数相对于所述参考标识的位置参数的变化来获取失真系数;所述二次像标识点的位置参数为所述二次像标识点在所述二次成像图像中的位置参数,所述参考标识点的位置参数为所述参考标识点在所述参考图像中的位置参数;根据所述失真系数对待投影图像进行失真修正。
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