[发明专利]位置检测装置、曝光装置及曝光方法有效
申请号: | 201310662906.5 | 申请日: | 2006-06-28 |
公开(公告)号: | CN103728849B | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 日高康弘;长山匡 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G01B11/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019 | 代理人: | 寿宁 |
地址: | 日本东京都千代*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种位置检测装置,具备从相对于受检面倾斜方向向受检面上投射光束的投射系统、接收由受检面反射的光束的受光系统,及基于利用受光系统的光束的受光结果,检测出关于与上述受检面交差的方向的受检面的位置的检测部。该位置检测装置还包括配置在投射系统的光路,将光束反射的投射侧反射面;及配置在投射系统的光路中投射侧反射面的射出侧的光路,将在投射侧反射面反射的光束非偏光化的投射侧偏光消除元件。投射系统通过投射侧偏光消除元件将光束投射到受检面。 | ||
搜索关键词: | 位置 检测 装置 曝光 方法 | ||
【主权项】:
一种位置检测装置,具备从相对于受检面倾斜的方向向上述受检面上投射光束的投射系统、接收由上述受检面反射的上述光束的受光系统,及基于利用上述受光系统的上述光束的受光结果,检测出关于与上述受检面交差的方向的上述受检面的位置的检测部,该位置检测装置的特征是,还包括:配置在上述投射系统的光路,将上述光束反射的投射侧反射面;配置在上述投射系统的光路中上述投射侧反射面的射出侧的光路,将在上述投射侧反射面反射的上述光束非偏光化的投射侧偏光消除元件;受光侧偏光消除元件,其配置于上述受光系统的光路,将由上述受检面反射的上述光束进行非偏光化;以及受光侧反射面,其配置于上述受光系统的光路中上述受光侧偏光消除元件的射出侧,将通过上述受光侧偏光消除元件的上述光束进行反射;上述投射系统通过上述投射侧偏光消除元件将上述光束投射到上述受检面,且上述受光系统通过上述受光侧偏光消除元件而接收由上述受检面反射的上述光束。
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