[发明专利]辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备有效
| 申请号： | 201310628431.8 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103852777B | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | H.库罗基;I.阿布德拉茨 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01T1/00 | 分类号： | G01T1/00;G01T1/02;A61B6/03 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 叶晓勇,汤春龙 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备，该设备包括辐射源；辐射检测器，辐射检测器包括沿通道和切片方向设置的多个检测元件；辐射吸收器，辐射吸收器设置为覆盖辐射检测器中的第一和第二检测元件区域的一部分，所述部分位于所述第一和第二检测元件的相互毗连的侧面上；以及指定装置，指定装置基于从辐射源的焦点发出的辐射的强度和由第一和第二检测元件区域中的检测元件检测的辐射的强度指定辐射源的焦点的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 焦点 位置 检测 方法 设备 断层 成像 | ||
【主权项】：
一种辐射焦点位置检测方法，用于检测辐射断层成像设备中辐射源的焦点的位置位移，所述方法包括以下步骤：设置辐射吸收器以便覆盖第一和第二检测元件区域的部分，所述部分位于辐射检测器中所述第一和第二检测元件区域的相互毗连的侧面上，所述辐射检测器包括沿通道方向和切片方向设置的多个检测元件；以及基于所述第一和第二检测元件区域中的检测元件来检测辐射的强度，指定焦点的位置或者焦点从参考位置的移动量。
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