[发明专利]一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统有效
申请号: | 201310626223.4 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN103677011A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 杨旺林;刘亚平;魏建强;张玉国;王加朋 | 申请(专利权)人: | 北京振兴计量测试研究所 |
主分类号: | G05D23/24 | 分类号: | G05D23/24;G05D23/30 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 | 代理人: | 余长江 |
地址: | 100074 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统。本系统包括温度控制仪表、程控电源、温度传感器、制冷装置、加热片和面源黑体辐射源;其中,所述加热片、所述温度控制仪表分别设置于所述面源黑体辐射源上,所述温度控制仪表的第一路控制信号输出端经所述程控电源与所述加热片连接,所述温度控制仪表的第二路控制信号输出端与所述制冷装置的控制端连接,所述制冷装置与所述面源黑体辐射源连接;所述温度传感器所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统可以有效的提高面源黑体的温度控制范围,特别是制冷方式,能够使得面源黑体控制温度下限达到190K,能逼真的模拟真空低温红外辐射标准源。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 真空 条件 下面 黑体 温度 范围 控制系统 | ||
【主权项】:
一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统,其特征在于包括温度控制仪表、程控电源、温度传感器、制冷装置、加热片和面源黑体辐射源;其中,所述加热片、所述温度控制仪表分别设置于所述面源黑体辐射源上,所述温度控制仪表的第一路控制信号输出端经所述程控电源与所述加热片连接,所述温度控制仪表的第二路控制信号输出端与所述制冷装置的控制端连接,所述制冷装置与所述面源黑体辐射源连接;所述温度传感器所述温度控制仪表的信号输入端连接。
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