[发明专利]一种阴离子型稀土配合物与水滑石复合发光超薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201310538048.3 | 申请日： | 2013-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN103642486A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 闫东鹏;赵敏君;高瑞;方晓雨;黄晓斌;卫敏 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C09K11/06 | 分类号： | C09K11/06;C07F5/00 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 张水俤 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于发光材料领域的阴离子型稀土配合物[RE(III)(DBM)3bath](其中RE为Eu,Tb,Dy等稀土离子;DBM（二苯甲酰基甲烷）为第一配体；bath（红菲绕啉二磺酸钠）为第二配体)的合成及其与水滑石复合发光超薄膜及其制备方法。具体步骤为：制备阴离子型稀土有机配合物；制备水滑石胶体溶液；配制稀土有机配合物水溶液；用亲水处理后的基底在两种溶液中进行交替组装。本发明利用水滑石层板的刚性结构和二维空间的限域作用，实现了稀土配合物的固定化以及在分子尺度上的有序排列，提高了稀土配合物的薄膜均一性和连续性，降低了因配合物间分子聚集而产生的荧光淬灭；该薄膜制备过程易于操作，薄膜中的稀土配合物发光强度以及薄膜厚度均可通过改变组装次数实现精确可控。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阴离子 稀土 配合 滑石 复合 发光 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种阴离子型稀土配合物与水滑石复合发光超薄膜及其制备方法，其特征在于，所述超薄膜由稀土有机配合物(RE)(III)(DBM)3bath与无机组分水滑石纳米片在三维空间层层交替组装形成，具有明显的层状结构特征，同时根据组装层数的不同，薄膜厚度可在几纳米到几百纳米之间均匀调控。
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