[发明专利]铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置有效
| 申请号： | 201310535172.4 | 申请日： | 2013-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN103558680A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 吴华峰;高闽光;王锋平;张玉钧;李相贤;刘文清;常国涛;宋修明;吴文明 | 申请（专利权）人： | 合肥金星机电科技发展有限公司;中国科学院合肥物质科学研究院;金隆铜业有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/02 | 分类号： | G02B17/02;G01N21/25 |
| 代理公司： | 合肥诚兴知识产权代理有限公司 34109 | 代理人： | 汤茂盛 |
| 地址： | 230088 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学系统设计领域，特别涉及一种铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置，包括设置在镜筒内的透镜、平面反射镜以及反射镜，所述的透镜布置在镜筒前段或中段位置处，光线自镜筒的前端进入，镜筒的后端布置所述的平面反射镜，平面反射镜将经过透镜聚集的光线反射至透镜一侧，透镜靠近平面反射镜的一侧或透镜的周边相邻布置所述的反射镜用于接收平面反射镜反射的光线，反射镜相对应位置处的镜筒筒壁上开设通孔用于布置光纤。入射光线依次经过透镜、平面反射镜、反射镜后聚焦在光纤上输出，通过巧妙布置各镜片位置，使得镜筒长度和能量损失均减小。 | ||
| 搜索关键词： | 冶炼 过程 发射光谱分析 系统 导入 光学 装置 | ||
【主权项】：
一种铜冶炼过程发射光谱分析系统的导入光学装置，其特征在于：包括设置在镜筒（10）内的透镜（20）、平面反射镜（30）以及反射镜（40），所述的透镜（20）布置在镜筒（10）前段或中段位置处，光线自镜筒（10）的前端进入，镜筒（10）的后端布置所述的平面反射镜（30），平面反射镜（30）将经过透镜（20）聚集的光线反射至透镜（20）一侧，透镜（20）靠近平面反射镜（30）的一侧或透镜（20）的周边相邻布置所述的反射镜（40）用于接收平面反射镜（30）反射的光线，反射镜（40）相对应位置处的镜筒（10）筒壁上开设通孔用于布置光纤（70）。
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