[发明专利]压印光刻有效
| 申请号： | 201310495547.9 | 申请日： | 2006-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103543602A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | S·F·伍伊斯特;J·F·迪克斯曼;Y·W·克鲁特-斯特格曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王鹏鑫 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括用来保持多个压印模板的模板保持器和一个或多个将液体配送到所述多个压印模板上的分配器。
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