[发明专利]一种选择吸收滤光结构有效
申请号: | 201310456357.6 | 申请日: | 2013-09-29 |
公开(公告)号: | CN103513316A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 周云;陈林森;申溯;叶燕 | 申请(专利权)人: | 苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 唐灵;常亮 |
地址: | 215123 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种选择吸收滤光结构,包括:基底,位于基底上的介质微纳单元,位于介质微纳单元上的金属层,金属层全覆盖在介质微纳单元上,即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层,所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。该滤光结构具有较高的吸收效率,且对入射光的角度和偏振态不敏感。同时制备工艺简单,易于实现。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量,也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案,改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。 | ||
搜索关键词: | 一种 选择 吸收 滤光 结构 | ||
【主权项】:
一种选择吸收滤光结构,包括:基底,位于基底上的介质微纳单元,位于介质微纳单元上的金属层,金属层全覆盖在介质微纳单元上,即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层,其特征在于:所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司,未经苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310456357.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种三维凸包的快速构造方法
- 下一篇:铜(I)络合物,尤其用于光电组件