[发明专利]光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置有效
| 申请号： | 201310441881.6 | 申请日： | 2013-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN103472559A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 彭海峰;巩岩;倪明阳;赵磊;秦硕 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置，涉及深紫外投影光刻物镜结构设计与装调技术领域，为解决现有光学元件轴向调整装置存在的调整行程小，存在倾斜误差的问题，该装置包括电容传感器、镜框、宏微调节机构和导向导轨，电容传感器设置在镜框的上方，用于检测镜框的移动距离；宏微调节机构设置在镜框的边框下面，用于对镜框的宏微动调节；导向导轨设置在镜框的边框外侧，用于限制镜框的移动；所述镜框包括周向均布的三个凸台及三个导向凸台；电容传感器设置凸台上方，宏微调节机构作用在凸台上，导向凸台与导向导轨配合；该装置能在保证调整精度的同时，实现大行程调节；同时，驱动结构作用在镜框上，降低了调整力对光学元件面型的破坏。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 系统 光学 元件 轴向 微调 装置 | ||
【主权项】：
光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置，其特征是，包括电容传感器（1）、镜框（3）、宏微调节机构（4）和导向导轨（5），电容传感器（1）设置在镜框（3）的上方，用于检测镜框（3）的移动距离；宏微调节机构（4）设置在镜框（3）的边框下面，用于对镜框（3）的宏微动调节；导向导轨（5）设置在镜框（3）的边框外侧，用于限制镜框（3）的移动。
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