[发明专利]皮革与薄纱拼接的多孔面料服装无效
| 申请号： | 201310436197.9 | 申请日： | 2013-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN104432608A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 胡士勇 | 申请（专利权）人： | 胡士勇 |
| 主分类号： | A41D1/00 | 分类号： | A41D1/00;A41D31/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214423 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装。包括服装本体(1)，服装本体(1)的前身与后身均为皮革(2)与薄纱(3)拼接而成，所述皮革(2)与所述薄纱(3)呈不规则图形；所述服装本体(1)所采用的面料包括多孔面料制成的基材，多孔面料还包括底层及信息层，底层直接形成于基材上，信息层设置于底层上，信息层包括机器可识别的图案，机器可识别的图案由多个标识单元排列而成，底层是一个致密膜，底层的孔隙尺寸小于标识单元的尺寸。本发明增加了服装的层次感，丰富了服装的样式。本发明通过在信息层及多孔面料之间增加一层致密膜结构的底层，从而能够避免信息层的标识单元印制不全的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 皮革 薄纱 拼接 多孔 面料 服装 | ||
【主权项】：
一种皮革与薄纱拼接的多孔面料服装，包括服装本体(1)，其特点是：所述服装本体(1)的前身与后身均为皮革(2)与薄纱(3)拼接而成，所述皮革(2)与所述薄纱(3)呈不规则图形；所述服装本体(1)所采用的面料包括多孔面料制成的基材，多孔面料还包括底层及信息层，底层直接形成于基材上，信息层设置于底层上，信息层包括机器可识别的图案，机器可识别的图案由多个标识单元排列而成，底层是一个致密膜，底层的孔隙尺寸小于标识单元的尺寸。
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