[发明专利]非离子型高分子研磨助剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201310409168.3 | 申请日： | 2013-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN103483564A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 张宝华;李红达;索惠惠;沈萍萍;谈惠洁 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C08G63/181 | 分类号： | C08G63/181;B02C23/06 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 陆聪明 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种非离子型高分子研磨助剂及其制备方法。该用于炭黑油性分散体系的非离子型高分子研磨助剂是二元羧酸的一种或两种的混合物与乙二醇按摩尔比为1:1.5～2.3，在金属化合物催化剂下反应得到的。其中二元羧酸是偏苯三酸酐与脂肪醇或脂肪醇聚氧乙烯醚按摩尔比为1:1，进行酯化反应生成的。本发明得到的用于炭黑油性体系的非离子型高分子研磨助剂具有生产工艺简单、分散效果良好的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 高分子 研磨 助剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种非离子型高分子研磨助剂，其特征在于该研磨助剂的的结构式为：![]()
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其中m=12~18；p+q=0～100（这样是否更好，请给出一个适当的范围，可以这样表达）；n=3~9。
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