[发明专利]基于纹理特征加强的高光谱图像处理方法有效

专利信息
申请号: 201310358810.X 申请日: 2013-08-16
公开(公告)号: CN103440625A 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 邓水光;徐亦飞;尹建伟;李莹;吴健;吴朝晖 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T7/40
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供的基于特征加强的高光谱图像处理方法,采用由二维图像中所有像素点的特征值组成的纹理特征矩阵描述相应的二维图像,并对所有二维图像的纹理特征矩阵进行纹理特征加强,得到纹理特征加强矩阵,并根据所有纹理特征加强矩阵提取出主要的纹理特征并形成主要纹理特征向量,用主要纹理特征向量表示高光谱图像。本发明的基于特征加强的高光谱图像处理方法合理利用了高光谱图像的多波长信息,能够准确的捕捉到丰富的纹理特征,便于进行纹理细节的区分,尤其适用于细纹理图像分析。
搜索关键词: 基于 纹理 特征 加强 光谱 图像 处理 方法
【主权项】:
一种基于纹理特征加强的高光谱图像处理方法,所述高光谱图像包含若干与不同波长对应的二维图像,其特征在于,所述高光谱图像处理方法包括:1)对任一二维图像进行滤波,得到二维图像中所有像素点的局部方向响应,多次滤波得到的多个方向的局部方向响应组合形成所有像素点的局部方向响应向量;2)依次对所述的局部方向响应向量进行归一化和N状态编码,得到编码化的方向向量,根据所述的方向向量获取所有像素点的特征值,并构建纹理特征矩阵;3)循环步骤1)~2)获取所有二维图像的纹理特征矩阵,根据各纹理特征矩阵的波长相关性,对每个纹理特征矩阵进行纹理特征加强,得到相应的纹理特征加强矩阵;4)从所有的纹理特征加强矩阵中提取主要纹理特征,形成用于表示高光谱图像的主要纹理特征向量。
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