[发明专利]高清晰度激光直接雕刻凹印版的制作方法无效
| 申请号： | 201310327466.8 | 申请日： | 2013-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN103395277A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 罗宗宏 | 申请（专利权）人： | 汕头市精工东捷制版有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/05 | 分类号： | B41C1/05;B41N1/06 |
| 代理公司： | 汕头市高科专利事务所 44103 | 代理人： | 王少明 |
| 地址： | 515000 广东省汕头*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种高清晰度激光直接雕刻凹印版的制作方法，包括制作基版，基版上镀铜，在镀铜基版上镀锌，将锌层抛光处理后，进行激光雕刻形成凹坑，雕刻后对版面进行抛光，用重量浓度5-15%硝酸清洗后，在镀锌层上进行镀铬。由该方法制得的凹印版可以有效提高凹坑深浅变化，减少网点缺陷，由此提高印刷品图文的清晰度和灰度变化层次。 | ||
| 搜索关键词： | 清晰度 激光 直接 雕刻 凹印版 制作方法 | ||
【主权项】：
一种高清晰度激光直接雕刻凹印版的制作方法，包括制作基版，基版上镀铜，其特征在于，在镀铜基版上镀锌，将锌层抛光处理后，进行激光雕刻形成凹坑，雕刻后对版面进行抛光，用重量浓度5‑15%硝酸清洗后，在镀锌层上进行镀铬。
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