[发明专利]一种压电陶瓷执行器的高精度控制方法有效
申请号: | 201310254046.1 | 申请日: | 2013-06-24 |
公开(公告)号: | CN103336429A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 田大鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G05B13/00 | 分类号: | G05B13/00 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 陶尊新 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 一种压电陶瓷执行器的高精度控制方法,涉及高精度微机电系统与伺服技术领域,解决现有压电陶瓷执行器控制方法的不足,包括压电陶瓷线性化干扰观测器、反馈控制器、以及线性前馈;所述压电陶瓷线性化干扰观测器将压电陶瓷非线性迟滞、外界干扰、惯性力其它未建模动态等因素统一折合为等效干扰,实现该等效干扰的观测与补偿,从而保证压电陶瓷执行器响应特性的线性化;反馈控制器包含积分环节与二重积分环节,保证压电陶瓷执行器对指令的跟踪精度;所述线性前馈根据线性化的压电陶瓷执行器特性,将位置指令直接作用在压电陶瓷执行器上,提高执行器的动态性能。本发明不依靠非线性迟滞模型,且简单、可靠,提高了压电陶瓷执行器的伺服精度。 | ||
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【主权项】:
一种压电陶瓷执行器的高精度控制方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、压电陶瓷线性化干扰观测器(2)根据压电陶瓷执行器(1)的位置响应以及输入给压电陶瓷执行器(1)的控制电压估计出等效干扰,并对等效干扰进行补偿,使压电陶瓷执行器(1)的实际位移响应特性呈线性比例关系;具体为:设定压电陶瓷执行器(1)的位移响应为y(t),初值为y(0);输入到压电陶瓷执行器的控制电压为u(t),将压电陶瓷执行器(1)推动的负载质量、非线性迟滞特性、外界干扰的集合和其它未建模动态扰动的集合视为一个等效干扰,所述压电陶瓷执行器(1)的动力学特性表达式为:y(t)=Kuu(t)+d(t)+y(0), d ( t ) = H [ u ( t ) ] - M y · · ( t ) + d equ ( t ) + Δ - K u u ( t ) 式中,M为压电陶瓷执行器推动的负载质量,H为非线性迟滞特性,dequ为外界干扰的集合,Δ为其它未建模动态扰动的集合,d(t)为等效干扰,Ku为与非线性迟滞特性曲线接近的线性特性的线性系数;所述压电陶瓷执行器(1)的位移响应y(t)为在等效干扰影响下与输入控制电压u(t)成线性关系,等效干扰d(t)=y(t)‑y(0)‑Kuu(t);在所述输入控制电压中减去等效干扰与比例系数(3)的乘积,实现对等效干扰的补偿;所述比例系数(3)的取值为压电陶瓷线性化干扰观测器(2)中的Ku的倒数;步骤二、反馈控制器(4)根据压电陶瓷执行器(1)实际位移响应与位置指令之间的偏差,计算反馈控制量;所述反馈控制量与线性指令前馈(5)输出量叠加后得到的控制量ur用于压电陶瓷执行器(1)的位移响应y对指令进行跟踪;步骤三、所述线性指令前馈(5)根据线性化的压电陶瓷执行器(1)响应特性,将位置指令信息输入压电陶瓷执行器(1),实现对压电陶瓷执行器(1)的高精度控制。
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