[发明专利]两维位移调节机构有效
申请号: | 201310250290.0 | 申请日: | 2013-06-21 |
公开(公告)号: | CN103345295A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 杜李峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G05G5/00 | 分类号: | G05G5/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种两维位移调节机构,由磁铁提供回复力,提供两维平移调节,单层实现两维平移调节,稳定性好,结构紧凑。 | ||
搜索关键词: | 位移 调节 机构 | ||
【主权项】:
两维位移调节机构,特征在于其构成包括底座、平台、丝杆、导向柱、磁铁和导轨;所述的底座和平台为非导磁材料制成;所述的底座的两邻边设有较高的边框条和一个较低的开放式的方形区域,在该方形区域的中心偏左下方设有第一内孔,该第一内孔嵌有第一磁铁,所述的两边框条上均设有自外向内的通向所述的方形区域的同轴的螺孔和通孔,该通孔的孔径小于所述螺孔的小径,该螺孔供所述的丝杆啮合,所述的导向柱和所述的导轨通过螺钉呈“T”形连接在一起,所述的导向柱置于所述的通孔中;所述的平台为四方形,该平台的下方的中心偏右上方区域具有供第二磁铁嵌设的第二内孔,所述的平台中的第二磁铁与所述的底座的第一磁铁异极性相对并且位置相错,所述的平台的两相邻侧面均设有内凹的“┑”形导向面,所述的平台置于所述的底座的方形区域,该平台的下表面与所述的底座方形区域的上表面形成滑移面,所述的平台的“┑”形导向面与所述的导轨的导轨面相向相靠,所述的丝杆位于所述的螺孔中,借助所述的丝杆在所述的螺孔中旋动推动所述的导向柱在通孔中运动和所述的第一磁铁、第二磁铁中心之间偏差的恢复力,驱动所述的平台在所述的底座上滑动形成所述的平台的一维位置移动。
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G05 控制;调节
G05G 只按机械特征区分的控制装置或系统
G05G5-00 防止、限制或恢复控制机构的零部件运动的装置,例如锁定控制构件
G05G5-02 .防止控制构件发生不希望移动的装置,此构件能以两个或多个单独的步骤或方式移动,例如限制为逐步移动或按特定的顺序移动
G05G5-03 .有助于操作者知道控制构件到达目标位置或基准位置的装置;提供感觉,例如,产生反作用力的装置
G05G5-04 .限制构件运动的止动器,例如可调整的止动器
G05G5-05 .使控制构件返回或趋于返回到不工作或空档位置的装置,例如通过提供回复弹簧或有弹性的末端止动装置
G05G5-06 .用于仅将构件保持在一个或有限数目的确定位置上
G05G 只按机械特征区分的控制装置或系统
G05G5-00 防止、限制或恢复控制机构的零部件运动的装置,例如锁定控制构件
G05G5-02 .防止控制构件发生不希望移动的装置,此构件能以两个或多个单独的步骤或方式移动,例如限制为逐步移动或按特定的顺序移动
G05G5-03 .有助于操作者知道控制构件到达目标位置或基准位置的装置;提供感觉,例如,产生反作用力的装置
G05G5-04 .限制构件运动的止动器,例如可调整的止动器
G05G5-05 .使控制构件返回或趋于返回到不工作或空档位置的装置,例如通过提供回复弹簧或有弹性的末端止动装置
G05G5-06 .用于仅将构件保持在一个或有限数目的确定位置上