[发明专利]一种去除光阻残留物的清洗液在审
| 申请号： | 201310245600.X | 申请日： | 2013-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN104238287A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;何春阳;孙广胜 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于去除光阻残留物的清洗液及其组成。这种去除光阻残留物的清洗液含有季胺氢氧化物，醇胺，溶剂以及硅烷。该清洗液能够更为有效地去除晶圆上的光阻残留物，对金属铜、铝等基本不腐蚀；在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
一种用于去除光阻残留物的清洗液，含有季胺氢氧化物，醇胺，溶剂，其特征在于，所述清洗液包含有硅烷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子科技（上海）有限公司，未经安集微电子科技（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310245600.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
