[发明专利]光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置在审
| 申请号： | 201310228386.7 | 申请日： | 2013-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN103487850A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 品川雅;井上龙一 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置，所述光学薄膜的活性化处理方法能够在层叠了的光学薄膜中兼顾提高其粘接性和防止产生外观缺陷。在沿着辊输送光学薄膜、并从辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法中，边冷却辊边进行活性化处理。作为活性化处理，优选电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理中的至少一种处理，作为光学薄膜，优选为偏振片和透明保护薄膜中的至少一种光学薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 活性 处理 方法 制造 以及 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
一种光学薄膜的活性化处理方法，其特征在于，其为沿着辊输送光学薄膜、并从所述辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法，其中，边冷却所述辊边进行活性化处理。
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