[发明专利]光刻机照明系统的级联微透镜阵列的对准装置和对准方法有效

专利信息
申请号: 201310227449.7 申请日: 2013-06-07
公开(公告)号: CN103309175A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 张方;朱菁;杨宝喜;黄惠杰;黄立华;曾爱军;胡小邦;刘蕾;张佩;肖艳芬;陈明 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光刻机照明系统的级联微透镜阵列的对准装置和对准方法,该装置的构成包括平行光光源、光阑、对准台、聚光镜和图像采集单元,上述部件的位置关系如下:沿平行光光源发射的平行光束的前进方向依次是同光轴的光阑、对准台、聚光镜和图像采集单元,所述的对准台供待对准的级联微透镜阵列放置,所述的对准台具有垂直于所述的光轴平移的机构。本发明容易实现,不仅可以用于级联微球面透镜的对准,也可以用于级联微柱面透镜的对准。
搜索关键词: 光刻 照明 系统 级联 透镜 阵列 对准 装置 方法
【主权项】:
一种光刻机照明系统的级联微透镜阵列的对准装置,特征在于其构成包括平行光光源(1)、光阑(2)、对准台(3)、聚光镜(4)和图像采集单元(5),上述部件的位置关系如下:沿平行光光源(1)发射的平行光束的前进方向依次是同光轴的光阑(2)、对准台(3)、聚光镜(4)和图像采集单元(5),所述的对准台(3)供待对准的级联微透镜阵列放置,所述的对准台(3)具有垂直于所述的光轴平移的机构。
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