[发明专利]垂直照明暗场显微镜有效
| 申请号： | 201310224827.6 | 申请日： | 2013-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN103268009A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 石锦卫;李晓勤;刘大禾;郑如强 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | G02B21/10 | 分类号： | G02B21/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明给出了一种垂直照明的暗场显微系统。该显微镜包含：照明光源及准直光学系统，用于会聚入射光的长工作距离聚光镜，用于反射所会聚入射光束的小尺寸平面反射镜及镜架，用于收集散射光的大数值孔径长工作距离物镜，用于对所收集散射信号进行成像的光学系统以及成像CCD。现有的倾斜照明暗场显微镜具有一个严重问题：在观察暗场信号或者进行光谱分析时，所得结果容易受到衬底的影响。本发明垂直照明暗场显微镜可以解决这个问题，获得单纯由结构、瑕疵和边界等产生的信号。此为，本发明同时具有透射和反射两种工作方式，在对于微纳米结构进行分析时可以提供更多的信息。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 照明 暗场 显微镜 | ||
【主权项】：
一种垂直照明的暗场显微镜，其部件包括：照明光源及准直光学系统，长工作距离聚光镜用于会聚入射光，用于反射所会聚入射光束的小尺寸平面反射镜及镜架，用于收集散射光的大数值孔径长工作距离物镜，用于对所收集散射信号进行成像的光学系统以及成像CCD。
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