[发明专利]氧化砷中去除硒、硼杂质的工艺方法有效

专利信息
申请号: 201310222456.8 申请日: 2013-06-06
公开(公告)号: CN103265073A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 周斌;金杰;罗学文;罗亮 申请(专利权)人: 江西海宸光电科技有限公司
主分类号: C01G28/00 分类号: C01G28/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 338000 江*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 氧化砷中去除硒、硼杂质的工艺方法,是一种制备无硒、无硼的氧化砷的工艺方法,根据原料的不同,具体的步骤也不同,分别以低纯度工业单质砷和低纯度工业氧化砷为原料,制备出无硒、硼杂质的氧化砷,为三氯化神精馏和氧化砷蒸馏提纯制备高纯度单质砷提供无硒无硼的氧化砷原料。
搜索关键词: 氧化 去除 杂质 工艺 方法
【主权项】:
氧化砷中去除硒、硼杂质的工艺方法,其特征在于,以低纯度工业单质砷为原料的工艺方法为:(1)根据处理料的多少,准备好容积为50—500升的塑料桶或者钛制作的容器;(2)采用卧式管状转化炉将单质砷制备为氧化砷,将制备好的氧化砷粉末放入水的电阻率为10~18MΩ的纯水里浸泡5~48小时,氧化砷粉末的堆体积和水的体积比按照1:1~3的比例,即1体积的氧化砷堆体积放1~3体积的纯水;(3)物料浸泡好后,先把泡料容器里适当的上清液去除,去除上清液后的水与料一起倒入容积为500~1500L的带加热的电动搅拌器里,搅拌1~6小时;(4)将带加热的搅拌器搅拌后的物料放入真空脱水料盘真空脱水,或者放入甩干机里甩干脱水,脱水后的料硼的浓度小于10PPb,硒的浓度从原料20000~50000PPb降到200~300PPb。
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