[发明专利]磁控溅射镀膜阴极机构有效
| 申请号： | 201310210428.4 | 申请日： | 2013-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN103290378A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 郑芳平;张迅;易伟华 | 申请（专利权）人： | 江西沃格光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 一种磁控溅射镀膜阴极机构，包括依次层叠的靶材、背板以及磁性材料层，所述靶材在工作时形成有跑道区，所述靶材与所述背板之间设有导磁材料层，所述导磁材料层的形状与所述跑道区的形状相匹配。上述磁控溅射镀膜阴极机构，在靶材和背板之间加入与靶材跑道区形状相匹配的导磁材料层，通过改变靶材表面的磁场设计，将磁力线变得更加散开，增强靶材表面磁场的均匀性，从而增加了靶材表面蚀刻的宽度，即扩大了溅射跑道的宽度，使得靶材利用率由原来的30%-35%提高到40%-45%左右，节约了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 阴极 机构 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射镀膜阴极机构，包括依次层叠的靶材、背板以及磁性材料层，所述靶材在工作时形成有跑道区，其特征在于，所述靶材与所述背板之间设有导磁材料层，所述导磁材料层的形状与所述跑道区的形状相匹配。
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