[发明专利]旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置

摘要

本发明公开一种旋转异形靶阴极机构，其靶管绕磁钢部件相对旋转，带动整个的靶材沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材表面都得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材的利用率，且靶材呈异形靶面结构，保证靶材的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材的利用率；由此延长了更换靶材的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；采用旋转阴极靶材设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，使溅射到内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，且清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构的结构简单。本发明还公开一种具有旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置。

主权项

一种旋转异形靶阴极机构，设置于磁控溅射镀膜装置的旋转阴极腔体内，其特征在于：包括支撑杆、磁钢部件、靶管及靶材，所述支撑杆固定连接于所述所述旋转阴极腔体内，所述磁钢部件呈密封设置并连接于所述支撑杆上，且所述磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，所述靶管转动地套设于所述支撑杆及所述磁钢部件外，所述靶管内的空隙形成冷却水通道，所述靶材设于所述靶管外，且所述靶材呈异形靶面结构。