[发明专利]超声清洗方法和超声清洗装置有效
| 申请号： | 201310179583.4 | 申请日： | 2013-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN103418572A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 森良弘;内部真佐志;榛原照男;久保悦子 | 申请（专利权）人： | 硅电子股份公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 舒雄文;王英 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超声清洗方法和超声清洗装置，由此以稳定的方式获得高颗粒去除率。具体公开了一种超声清洗方法，用于利用超声波照射其中溶解有气体的液体来清洗所述液体中的待清洗物，所述方法包括以下步骤：制备好其中溶解有所述气体的所述液体（S10）。在对所述液体施加超声波以使得在超声波的四阶频率时的所述液体的振动强度除以在超声波的基频时的所述液体的振动强度所确定的比值大于0.8/1000时，清洗所述待清洗物（S40）。 | ||
| 搜索关键词： | 超声 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种超声清洗方法，用于利用超声波照射其中溶解有气体的液体来清洗所述液体中的待清洗物（W），所述方法包括以下步骤：‑制备好其中溶解有所述气体的所述液体；以及‑在对所述液体施加超声波以使得在所述超声波的四阶频率时的所述液体的振动强度除以在所述超声波的基频时的所述液体的振动强度所确定的比值大于0.8/1000时，清洗所述待清洗物（W）。
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