[发明专利]可变周期多光束干涉光刻的方法

摘要

本发明涉及可变周期多光束干涉光刻的方法，包括激光器输出的激光经整形后由分光元件分为多束对称分布的发散光束；经准直透镜后多束发散光束被准直为多束平行于光轴的平行光束；通过连续变倍扩束镜调节各平行光束离光轴的间距；由聚焦透镜对各光束进行聚焦，在焦面上形成多光束干涉图样；将涂有光刻胶的样片置于聚焦透镜的焦面上实现多光束干涉光刻；调节连续变倍扩束镜改变各光束离光轴的距离，从而改变各光束干涉时的入射角，获得可变周期的多光束干涉光刻；通过承片台在x-y方向对干涉曝光场进行步进扫描拼接获得大面积曝光。本发明图形周期易调节、能实现大面积多光束干涉光刻等优点，用于平板显示、生物传感、太阳能电池及自清洁结构研究领域。

主权项

一种可变周期多光束干涉光刻的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤S1：在紫外激光器输出激光的传播方向放置激光整形器件，激光经激光整形器件后被整形为平顶光束，整形后的平顶光束由反射镜反射，以反射后平顶光束的传播方向为系统光轴，在系统光轴上依次放置分光元件、准直透镜、连续变倍扩束镜、聚焦透镜和样片；由分光元件将反射后的平顶光束分为多束对称分布的发散光束；步骤S2：多束对称分布的发散光束经过准直透镜后被准直为多束平行于系统光轴的平行光束；步骤S3：由连续变倍扩束镜调节各平行光束离系统光轴的间距，由于各平行光束均会被聚焦透镜聚焦于一固定焦点处，因此调节各平行光束离系统光轴的间距将会改变各光束入射至样片上的入射角；步骤S4：由聚焦透镜对各平行光束进行聚焦，在焦面上形成多光束干涉曝光场；步骤S5：将涂有光刻胶的样片置于聚焦透镜的焦面上，实现多光束干涉光刻；步骤S6：通过承片台在x‑y方向对干涉曝光场进行步进扫描拼接，获得1英寸～4英寸的大面积曝光；步骤S7：调节连续变倍扩束镜，改变各平行光束离光轴的间距，从而改变各光束在样片上干涉时的入射角，获得不同周期的多光束干涉光刻。