[发明专利]用于光刻设备的正面与背面对准测量装置有效
| 申请号： | 201310173132.X | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104155850B | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 杜荣;潘炼东;于大维;李志丹;徐兵 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于光刻设备的正面与背面对准装置，其特征在于包括第一对准系统、第二对准系统以及中继单元；两套对准系统光路互为补充，一套对准系统的光源发出的光线经过工件台上硅片的对准标记及中继单元，可成像在自身的成像设备或另一套对准系统的成像设备上。本发明提出的正面与背面对准装置，包括两套照明与成像光学系统，并通过切换光源的滤波片，使用户可以在近红外照明与可见光照明两种方式之间切换。通过选择不同的照明系统及成像系统，以及照明系统选择不同的滤波片，本发明的装置可以组合成多种不同照明、成像方式，以适应各种生产工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 正面 背面 对准 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的正面与背面对准装置，其特征在于包括第一对准系统、第二对准系统以及中继单元；两套对准系统光路互为补充，第二对准系统的光源发出的光线经过工件台上硅片的对准标记及中继单元，可成像在自身的成像设备或第一对准系统的成像设备上，第一对准系统的光源发出的光线经过工件台上硅片的对准标记，可成像在自身的成像设备上或经中继单元成像在第二对准系统的成像设备上。
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